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                產(chǎn)品中心

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                真空主動隔振平臺ZVI-VB系列
                產(chǎn)品簡介

                真空主動隔振平臺ZVI-VB系列,可以在真空環(huán)境下使用的主動隔振平臺、能更好適配真空實驗場景。

                產(chǎn)品型號:
                更新時間:2025-07-02
                廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
                訪問量:1366
                詳細介紹在線留言

                真空主動隔振平臺ZVI-VB系列

                特點

                • 空氣彈簧支撐,磁負剛度機構(gòu)

                • 機械式倒立擺負剛度機構(gòu)并聯(lián)正剛度機構(gòu)

                • 適用1E-4Pa的真空環(huán)境

                • 6自由度主動隔振

                • 主動隔振帶寬低至0.5Hz起

                • 標(biāo)品負載最大支持7000KG

                • 水平向電機峰值推力高達160N

                • 總體規(guī)格(長、寬、高)多種規(guī)格可選

                • 核心控制系統(tǒng)全部自研

                • 核心部件國產(chǎn)化

                技術(shù)指標(biāo)

                • 主動隔振帶寬:0.5-150Hz

                • 臺面穩(wěn)定性:≤±5um

                • 傳遞率:≤-20dB@2Hz,≤-35dB@5Hz,≤-50dB@10Hz

                • 水平向電機峰值推力高達270N

                • 系統(tǒng)支持最大功率400W

                • 臺面平面度:NTBP:0.02-0.05mm/600mm ×600mm

                                      NTBK:0.1mm/600mm×600mm

                                      大理石臺面:0級、1級、2級、3級可選(GB/T20428-2006)

                • 臺面厚度:100/200/300mm

                • 孔徑:可定制孔徑

                • 孔距:可定制孔距或特殊位置打孔

                • 標(biāo)品單腿最大承載能力:1800Kg

                真空主動隔振平臺ZVI-VB系列命名規(guī)則

                真空主動隔振平臺ZVI-VB系列

                選型表:(M、K、P參考具體臺面信息)

                產(chǎn)品型號

                整體規(guī)格(L*W:mm)

                臺面上負載要求(kg)

                臺面厚度(mm)

                隔振器規(guī)格

                (L*W*H:mm)

                單腿重量

                ZVI-VB-30-15M

                3000×1500

                100-2000

                400

                1060×900×202

                40kg

                尺寸圖:

                真空主動隔振平臺ZVI-VB系列

                型號

                尺寸( mm)

                L

                W

                T

                H1

                H2

                ZVI-VB-30-15M

                3000

                1500

                400

                900

                500

                相關(guān)案例:

                真空主動隔振平臺ZVI-VB系列

                • 光刻機:確保光刻膠的精確涂布和曝光。

                真空主動隔振平臺ZVI-VB系列

                • 刻蝕設(shè)備:在納米精度上進行精確加工,確保芯片電路的完整性。

                真空主動隔振平臺ZVI-VB系列

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